| 1984年，日本人Takanashi在一項(xiàng)美國(guó)中定義了浸入式光刻機(jī)zui基本的結(jié)構(gòu)特征，即在zui后一級(jí)物鏡與光刻膠之間充入一層透明的液體。 浸入式光刻是指在光刻機(jī)投影鏡頭與半導(dǎo)體硅片之間用一種液體充滿，從而獲得更好分辯率及增大鏡頭的數(shù)值孔徑，進(jìn)而實(shí)現(xiàn)更小曝光尺寸的一種新型光刻技術(shù)（圖1）。
讓我們看一下光刻系統(tǒng)分辨率的Rayleigh方程：
R=kλ/NA
式中λ是光的波長(zhǎng)，NA是系統(tǒng)中透鏡的數(shù)值孔徑，k是分辨率系數(shù)，代表了所有的其它工藝變量。顯而易見，減小曝光光源的波長(zhǎng)并增加投影透鏡的NA都可以提高分辨率。自從193nm波長(zhǎng)成為主攻方向以后，增大NA成為了業(yè)界人士孜孜不倦的追求。表1是提高193nm ArF浸入式光刻機(jī)NA的方案。由此可見，浸入液、光刻設(shè)備和其它相關(guān)環(huán)節(jié)的緊密配合是浸入式光刻技術(shù)前進(jìn)的保證。 將液體置于主鏡頭和硅片之間，入射光線自然而然地就會(huì)穿透比空氣折射率更高的液體，這種方式本身并沒(méi)有提高特定投影圖像的分辨率，但是它卻能夠賦予光刻機(jī)的鏡頭更高的數(shù)值孔徑。 NA=n sinα，其中n是透鏡周圍介質(zhì)的折射系數(shù)，α是透鏡的接受角。傳統(tǒng)的“干法”光刻系統(tǒng)中，介質(zhì)是折射系數(shù)為1的空氣，則NA的理論zui大值為1。采用具有更高折射系數(shù)的液體，浸入技術(shù)有可能使系統(tǒng)的NA>1。比如使用折射率為1.44的去離子水后，NA的理論zui大值即為1.44。在193nm曝光系統(tǒng)中，分辨率R=kλ/NA就可以達(dá)到k*193/1.44=132mn。如果液體不是水而其它液體，但折射率比1.44高時(shí)，則實(shí)際分辨率可以非常方便地再次提高，也這是浸入式光刻技術(shù)能很快普及的原因。浸入式光刻的數(shù)值孔徑大小是與使用液體的折射率是直接相關(guān)的。因此，人們正在著眼于尋找除水以外具有更大折射率的液體。 早在2005年SPIE Microlithography的年會(huì)上，JSR和DuPont等公司就已經(jīng)公布了它們的高折射率液體的研發(fā)計(jì)劃。在選擇高折射率液體時(shí)，考慮的重點(diǎn)包括：與光刻膠沒(méi)有反應(yīng)；光透過(guò)率高；折射率高；其它各種特性良好（表2）。已研發(fā)出的第二代浸入液的折射率為1.64，該液體氧氣的吸收很少，即便被曝露于空氣中性能也十分穩(wěn)定。并且由于蒸汽壓很低，所以很難發(fā)生熱分解。這個(gè)折射率數(shù)值能夠把193nm光刻機(jī)的有效波長(zhǎng)降低到大約116nm左右。至于第三代浸入液，它的折射率應(yīng)為1.8左右，同時(shí)還需要有更高折射率的鏡頭才能達(dá)到約1.65的NA值。
浸入液體在未來(lái)仍有許多問(wèn)題亟待解決：什么樣的液體更適合浸入式光刻的需求；液體的供給與回收；液體傳輸中的流速、氣泡、溫度、壓力的控制；液體特性，例如流速、氣泡、溫度、壓力變化對(duì)光學(xué)性能（折射率，吸收，散射、雙折射、像差）的影響及其測(cè)量與控制；偏振光照明時(shí)，液體與抗蝕劑的相互作用；液體折射率與液體兩側(cè)元件折射率匹配；液體與光刻環(huán)境中相關(guān)元件的兼容性等。 對(duì)于光刻設(shè)備來(lái)說(shuō)，鏡頭是制約發(fā)展的主要瓶頸之一。通過(guò)改善光學(xué)主鏡頭來(lái)提高光刻機(jī)NA的主要途徑有兩個(gè)：一是用彎曲主鏡頭替代平面鏡頭。但彎曲主鏡頭的表面很難控制浸入液體的流動(dòng)，用于浸入式光刻機(jī)有一定難度；二是尋找高折射率的光學(xué)主鏡頭材料。目前193nm ArF浸入式光刻機(jī)主鏡頭折射率為1.56，IBM與JSR聯(lián)合推出Nemo系統(tǒng)主鏡頭采用高密度石英材料，其折射率為1.6。 日本ATAGO（愛宕）是折光儀產(chǎn)品的，其*的高折射率阿貝折射儀及多波長(zhǎng)阿貝折射儀在光刻機(jī)領(lǐng)域高折射率浸入液的研究與高折射率鏡頭的研究中具有不可替代的作用，更多詳情請(qǐng)點(diǎn)擊 www.atago-china.com 或致電 ATAGO（愛宕）咨詢。 日本ATAGO（愛宕）是折光儀產(chǎn)品的，其*的高折射率阿貝折光儀折射率測(cè)量范圍可高達(dá)1.87，更有DR-M2及DR-M4/1550型號(hào)的多波長(zhǎng)折射儀，可測(cè)量450-1550nm波長(zhǎng)下的折射率，折射率測(cè)量范圍可達(dá)1.92，是光刻行業(yè)研究的好幫手。日本ATAGO（愛宕）多波長(zhǎng)折光儀測(cè)試不同波長(zhǎng)下的折射率，在光源器件，LED封裝材料（玻璃和塑膠），LCD 液晶體材料，高折射率光學(xué)玻璃，微電子加工產(chǎn)業(yè)等方面應(yīng)用廣泛，對(duì)新材料，新光源，性能測(cè)試方面也有非常廣泛的應(yīng)用。波長(zhǎng)從可見波長(zhǎng)到近紅外波長(zhǎng)（1550nm），這樣可以評(píng)價(jià)光源的通透性， 全反射角度，亮度等等。如可用于透鏡生產(chǎn)應(yīng)用中分析玻璃和聚合物的特性表征，測(cè)量分散體及色散系數(shù)：VD，Vd 和 Ve . 更多詳情請(qǐng)點(diǎn)擊 www.atago-china.com 或致電 ATAGO（愛宕）咨詢。 | 
